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■ 装置概要
ClF3によるケミカルガスクリーニングは、プラズマレスの乾式クリーニングを可能にした新しいクリーニング法です。ケミクリーン-Ｇシリーズは、このクリーニング法を実際に御使用頂くための装置で、ＣＶＤ・ＰＶＤ装置および治具等のクリーニングに画期的な効果を御約束します。
■ システムの特長
＜プラズマレス乾式クリーニング＞
プラズマなしで乾式クリーニングが行えます。
＜他種類の材料に対応＞
電子および超硬用などの各種金属、セラミック類のクリーニングが行えます。
＜一貫システム＞
ガス供給装置・クリーニング装置および排ガス処理装置がワンセットになっており、ケミカルガスクリーニングを一貫して行えます。
＜省力化＞
短時間でクリーニングでき、さらに操作は自動化されているため大幅な省力化が行えます。
■ クリーニング例
＜電子材料＞
各種シリコン、タングステン、窒化ケイ素、酸化タンタルなど
＜超硬材料＞
窒化チタン、タングステンカーバイト、チタンカーバイトなど
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