製品情報
ケミクリーン- Sシリーズ
ケミクリーン- Dシリーズ
ケミクリーン- Vシリーズ
ケミクリーン- Uシリーズ
ケミクリーン- Gシリーズ
ケミクリーン- Eシリーズ





装置概要
ClF3によるケミカルガスクリーニングは、プラズマレスの乾式クリーニングを可能にした新しいクリーニング法です。ケミクリーン-Gシリーズは、このクリーニング法を実際に御使用頂くための装置で、CVD・PVD装置および治具等のクリーニングに画期的な効果を御約束します。

システムの特長
<プラズマレス乾式クリーニング>
プラズマなしで乾式クリーニングが行えます。
<他種類の材料に対応>
電子および超硬用などの各種金属、セラミック類のクリーニングが行えます。
<一貫システム>
ガス供給装置・クリーニング装置および排ガス処理装置がワンセットになっており、ケミカルガスクリーニングを一貫して行えます。
<省力化>
短時間でクリーニングでき、さらに操作は自動化されているため大幅な省力化が行えます。

クリーニング例
<電子材料>
各種シリコン、タングステン、窒化ケイ素、酸化タンタルなど
<超硬材料>
窒化チタン、タングステンカーバイト、チタンカーバイトなど



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